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X射線熒光分析的基礎和重要的儀器性能
更新時間：2021-05-21 點擊次數：2060次
在過去，X射線熒光分析（XRF）主要用于地質學。如今，它已成為工業和實驗室的關鍵技術。這種方法非常通用：它可以檢測從鈉到鈾的所有相關化學元素
XRF通常用于材料分析，即確定樣品中給定物質的含量，如測量珠寶中的黃金含量或根據《有害物質限制》（RoHS）指令檢測日常物品中的有害物質。此外，可以使用XRF測量鍍層的厚度：它快速、環保且無損。
這就是測量是如何進行的
當X射線設備開始測量時，X射線管會發出高能輻射，這也被稱為‘初級’輻射。當這些X射線擊中樣品中的一個原子時，它們會增加能量–即它們“激發”原子 - 使原子向其原子核附近發射電子，這個過程被稱為“電離”。由于這種狀態是不穩定的，一個來自更高電子層的電子移動來填充空隙，從而發射出“熒光”輻射。
這種二次輻射的能量水平類似指紋一樣：它是每個元素的特征。探測器接收熒光并將信號數字化。在信號經過處理后，設備產生一個光譜：檢測到的光子的能級在x軸上繪制，其頻率（計數率）在y軸上繪制。樣品中的元素可以從光譜中波峰的位置（x軸方向）來識別。這些峰的水平（y軸方向）提供了有關元素濃度的信息。
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